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本发明公开了一种光刻胶图形化装置，包括一低压腔室，所述低压腔室内部设置有光刻胶刻蚀定位装置，所述低压腔室外部联通一等离子体输入管道，所述等离子体输入管道延伸至所述低压腔室内部，并与所述光刻胶刻蚀定位装置间隔。本技术提供了一种创新的可以简单地...
该专利属于南方科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过南方科技大学授权不得商用。

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