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光波导结构及其制造方法技术
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文档序号:41280649
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本发明公开了一种光波导结构,包括:由第一介质层组成的下包层。由第二材料层的图形化结构组成呈条形结构的芯层。在芯层的顶部区域形成有一个第一沟槽。上包层将第一沟槽完全填充并延伸第一沟槽外的芯层的顶部表面以及将芯层宽度方向上的侧面覆。第二材料层的...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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