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本发明提供一种放射性去污泡沫基低共熔溶剂及其制备方法和应用，所述低共熔溶剂包括氢键供体和氢键受体；所述氢键供体为具有特定取代基的酸性化合物，所述氢键受体为具有特定取代基的氧配位中性化合物，所述特定取代基为具有1～16个C原子的对称或不对称的...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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