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一种半导体结构及其形成方法，半导体结构包括：基底，所述基底中形成有浅槽隔离结构，在相邻浅槽隔离结构之间的基底区域为有源区；栅介质层，覆盖所述浅槽隔离结构的表面、以及所述有源区的基底顶面和拐角处，所述栅介质层包括采用沉积工艺形成的第一栅介质层...
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