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公开了形成包括光致抗蚀剂底层和粘合层的结构的方法以及包括光致抗蚀剂底层和粘合层的结构。示例性方法包括使用循环沉积过程形成光致抗蚀剂底层和形成粘合层。粘合层可以在用于形成光致抗蚀剂底层的同一反应室内形成。通过改变一个或多个过程条件,可以基于选...该专利属于ASMIP私人控股有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASMIP私人控股有限公司授权不得商用。
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公开了形成包括光致抗蚀剂底层和粘合层的结构的方法以及包括光致抗蚀剂底层和粘合层的结构。示例性方法包括使用循环沉积过程形成光致抗蚀剂底层和形成粘合层。粘合层可以在用于形成光致抗蚀剂底层的同一反应室内形成。通过改变一个或多个过程条件,可以基于选...