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本发明公开一种半导体工艺设备，包括工艺腔室、电感装置和屏蔽装置；其中：工艺腔室具有工艺内腔，工艺腔室包括绝缘筒，电感装置环绕绝缘筒设置，屏蔽装置设于工艺内腔中，且被绝缘筒围绕；屏蔽装置包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，第一屏蔽件和第二屏蔽件均在绝...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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