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基板处理设备以及磁记录介质制造方法技术
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文档序号:4126057
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本发明提供了一种基板处理设备以及磁记录介质制造方法,该基板处理设备能够抑制经由基板相对布置的离子束产生器内部的相互污染和/或损坏。根据本发明实施例的基板处理设备包括向基板的一个待处理表面照射离子束的第一离子束产生器以及向另一个待处理表面照射...
该专利属于佳能安内华股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过佳能安内华股份有限公司授权不得商用。
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