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本发明公开了一种用于传送诸如基片的待传送物体的传送装置、具有相同功能的传送室，以及包括具有相同功能装置的真空处理系统。所述传送装置包括：第一传送组件，包括：用于支撑待传送物体的第一手柄，通过旋转线性移动所述第一手柄以传送所述待传送物体的第一...
该专利属于IPS株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过IPS株式会社授权不得商用。

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