【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及将待传送的物体(例如基板)进行传送的传送装装置, 具有相同功能的传送室，以及包括具有相同功能装置的真空处理系 统。
技术介绍
一般地，真空处理系统包括实施真空处理的处理室；和安装在处 理室一侧的传送室，用于从外部接收基板，将该传送室的压力从大气 状态减小至真空状态，然后将该基板传送至该处理室内，以及用于从 该处理室取回该基板，将该传送室的压力从该真空状态提高至该大气 状态，然后将该基板传送至外部。一对传送机械手安装于该传送室中，且这两个传送机械手交替实 施基板交换过程，例如，对该处理室和该传送室内的基板的回收和引 入过程。在该传送室与该处理室交换该基板时以及与外部交换该基板时 交替实现该大气状态和该真空状态。这里，根据该传送室的内体积改 变将该传送室中的压力从大气状态转变至该真空状态的时间，或反过 来(以下将被称为"压力转变时间")。就更大的基板来说，由于该更大基板的传送室具有相对更大的体 积，这可能导致在该大气状态和该真空状态之间的压力转变时间的增 加。而且，这可能导致基板的真空处理时间的增加，从而降低生产率。因此，需要一种减小该传送室的内体积的...
【技术保护点】
一种传送装置，包括： 第一传送组件，包括：用于支撑待传送物体的第一手柄，通过旋转线性移动所述第一手柄以传送所述待传送物体的第一旋转臂单元，以及旋转驱动所述第一旋转臂单元的第一驱动轴；以及 设置为与所述第一传送组件相间隔的第二传送 组件，所述第二传送组件包括：用于支撑待传送物体的第二手柄，通过旋转线性移动所述第二手柄以传送所述待传送物体的第二旋转臂单元，以及旋转式驱动所述第二旋转臂单元的第二驱动轴， 其中，所述第一旋转臂单元的旋转区域和所述第二旋转臂单元的旋转区 域相互重叠。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安成一，杨熙范，
申请(专利权)人：IPS株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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