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一种二维单晶GaSxSe1-x纳米片的制备方法及应用技术
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下载一种二维单晶GaSxSe1-x纳米片的制备方法及应用的技术资料
文档序号:41250106
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本发明公开了一种二维单晶GaS<subgt;x</subgt;Se<subgt;1‑x</subgt;纳米片的制备方法及在制备近紫外光电探测器中的应用,本发明利用VASP模拟软件及合金工程调控二维单晶GaS<s...
该专利属于郑州轻工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过郑州轻工业大学授权不得商用。
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