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本申请实施例涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种等离子体处理装置。等离子体处理装置包括腔体和限制环，其中的腔体具有反应腔室，以及与反应腔室连通的进气通道与排气通道，进气通道用于向反应腔室通入反应气体，排气通道用于抽出副产物，腔体设置有承载晶...
该专利属于上海谙邦半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海谙邦半导体设备有限公司授权不得商用。

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