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本公开提供了用于处理包含SiC表面的基板的装置、方法以及真空处理系统,用于处理包含SiC表面的基板的装置,包括:处理容器,处理容器包括:第一壳体;第二壳体,与第一壳体相配合,以形成容纳空间;承载结构,设置在容纳空间内,用于承载包含SiC表面...该专利属于费勉仪器科技(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过费勉仪器科技(上海)有限公司授权不得商用。
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