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本发明公开了一种半导体工艺流程中真空泵前级直流除尘装置,其特征在于,包括冷凝模块、静电排斥模块和收集模块依次竖直设置在真空室与真空泵之间的排气管道上;收集模块的底部具有收集槽和排气口;其中,所述冷凝模块用于对从真空室排出的废气进行冷却,促进...该专利属于保定途普拉斯半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过保定途普拉斯半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导体工艺流程中真空泵前级直流除尘装置,其特征在于,包括冷凝模块、静电排斥模块和收集模块依次竖直设置在真空室与真空泵之间的排气管道上;收集模块的底部具有收集槽和排气口;其中,所述冷凝模块用于对从真空室排出的废气进行冷却,促进...