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一种PbS量子点薄膜及其制备方法技术
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文档序号:41210104
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本申请提供一种PbS量子点薄膜及其制备方法,该PbS量子点薄膜的制备方法包括以下步骤:a)涂布PbS量子点溶液形成涂液层;b)在所述涂液层表面滴加配体溶液进行配体置换;所述配体溶液的成分包括四丁基碘化铵、碱金属盐和溶剂;c)滴加洗剂进行清洗...
该专利属于觉芯电子(无锡)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过觉芯电子(无锡)有限公司授权不得商用。
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