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本申请提供了一种图形关键尺寸量测方法、装置、电子设备及存储介质，涉及电力电子半导体制造技术领域，包括：在切割道上形成每个曝光场对应的当层量测标识，当层量测标识由前层量测标识按照预设比例缩放确定，当层量测标识包括分别形成于曝光场四个顶角位置处...
该专利属于粤芯半导体技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过粤芯半导体技术股份有限公司授权不得商用。

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