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本技术公开了一种用于MPCVD金刚石生长的晶种摆放装置，包括限位罐与密封盖，所述限位罐上安装有多个安装槽，多个所述安装槽内底壁均设有上顶槽，所述上顶槽内通过上顶机构设有上顶杆，所述上顶杆上末端固定设有上顶板，所述密封盖弧形外壁设有多块与安装...
该专利属于上海顺心谷半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海顺心谷半导体科技有限公司授权不得商用。

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