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本发明公开了提高磁控溅射高反铝中铝膜和介质膜层附着力的工艺方法，在高反铝的Al膜和介质膜之间制备AlN膜。制备AlN膜的方法为：对已经镀制Al膜的基片的AL膜表面进行氮化处理形成AlN膜层或者在已经镀制Al膜的基片的Al膜表面镀制AlN膜。...
该专利属于湘潭宏大真空技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湘潭宏大真空技术股份有限公司授权不得商用。

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