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一种掩膜层结构及其形成方法和半导体结构的形成方法，其中半导体结构的形成方法包括：提供衬底；在衬底表面形成器件层；在器件层表面形成初始掩膜层；对初始掩膜层进行改性处理，在器件层上形成掩膜层以及掩膜层表面的改性层，改性层的密度大于掩膜层的密度；...
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