专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
株式会社国际电气
>
衬底处理方法、半导体器件的制造方法、衬底处理装置及程序制造方法及图纸
>技术资料下载
下载衬底处理方法、半导体器件的制造方法、衬底处理装置及程序的技术资料
文档序号:41154313
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
(a)通过对在表面设有凹部的衬底供给第1成膜剂,从而在上述凹部内形成第1膜的工序;(b)通过对上述衬底供给第2成膜剂,从而在形成于上述凹部内的上述第1膜上形成化学组成与上述第1膜不同的第2膜的工序;(c)通过对上述衬底供给含氟的改质剂,使上...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。