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一种光学邻近修正方法,包括:提供设计图层,设计图层包括第一设计图形和第二设计图形;根据设计图层获取辅助图层,辅助图层包括第一辅助图形和第二辅助图形;根据设计图层获取初始目标图层,初始目标图层包括初始第一目标图形和初始第二目标图形;以辅助图层...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种光学邻近修正方法,包括:提供设计图层,设计图层包括第一设计图形和第二设计图形;根据设计图层获取辅助图层,辅助图层包括第一辅助图形和第二辅助图形;根据设计图层获取初始目标图层,初始目标图层包括初始第一目标图形和初始第二目标图形;以辅助图层...