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本技术涉及半导体制造技术领域，提供了一种半导体设备的清洗单元，用以改善清洗过程中清洗物料存在浪费的问题。清洗单元包括待清洗管路、排出管路、内循环管路，待清洗管路与排出管路相连通，待清洗管路的进液端设有第一阀门，所述待清洗管路的进液端用于通入...
该专利属于芯恩（青岛）集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩（青岛）集成电路有限公司授权不得商用。

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