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一种基片承载装置、半导体处理设备及基片位置调节方法，基片承载装置设置在半导体处理设备的反应腔内，其包含基座单元和位置调节装置，所述位置调节装置至少部分位于基座单元顶部开设的凹陷部中，所述位置调节装置的数量与所述凹陷部的数量相同；所述位置调节...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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