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一种掩模板及其组件、半导体结构及其形成方法和量测方法，所述掩模组件中，所述第一对准图形和所述第二对准图形，分别包括外延触角和内延触角；将所述掩模组件的图形转移至所述基底上时，所对应的外延触角和内延触角能够有效提高图形拼接的精度和准度，还能够...
该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

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