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诺瓦尔德股份有限公司
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包含至少一种式(I)的金属络合物的有机电子器件制造技术
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下载包含至少一种式(I)的金属络合物的有机电子器件的技术资料
文档序号:41134619
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本发明涉及一种有机电子器件,所述有机电子器件包含基底、阳极层、阴极层、至少一个第一发光层和空穴注入层,其中所述空穴注入层包含金属络合物,其中所述金属络合物具有式(I)。...
该专利属于诺瓦尔德股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过诺瓦尔德股份有限公司授权不得商用。
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