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提供了一种用于在掩模下方的含碳层中蚀刻特征的方法。提供同时蚀刻和钝化步骤，包括流动包括含硼钝化剂气体和含氧气体的蚀刻气体。由蚀刻气体产生等离子体，其中等离子体蚀刻含碳层中的特征。...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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