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本公开涉及一种高深宽比的纳米压印超透镜结构及其制备方法和应用。该高深宽比的纳米压印超透镜结构包括：支撑基底；形成于该支撑基底上的高深宽比纳米压印胶微纳结构阵列；形成于该高深宽比纳米压印胶微纳结构阵列上的薄膜材料层；其中，该高深宽比纳米压印胶...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。

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