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本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种掩模误差面积计算方法、系统及存储介质，本发明的掩模误差面积计算方法包括：输入掩模版图，获取该掩模版图中的所有图形及图形的初始面积；移动所述图形的各条边并依次连接得到移动后的图形，获取各图形的移动后面积；以...
该专利属于深圳晶源信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳晶源信息技术有限公司授权不得商用。

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