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本申请提供一种可双向冲洗的半导体清洗设备，涉及半导体清洗领域。一种可双向冲洗的半导体清洗设备，包括：线体，所述线体的内腔固定连接有冲洗架，所述冲洗架的正面固定连接有固定架，所述冲洗架上分别设置有调节组件和冲洗组件；所述固定架的底部固定连接有...
该专利属于芯朋半导体科技（如东）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯朋半导体科技（如东）有限公司授权不得商用。

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