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本发明涉及光刻技术领域，一种反射式极紫外光刻胶检测方法与装置，包括：极紫外光源模块、干涉光束产生模块、光刻胶曝光模块、放气测试系统模块、真空系统模块、隔振系统模块与显影和显影后表征系统模块。首先极紫外光通过分光元件产生多束光，通过聚焦反射镜...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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