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单光子雪崩二极管的结构和制备方法技术
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文档序号:41108657
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本发明提供一种单光子雪崩二极管的结构,包括:依次在衬底上叠设的N型掺杂InP缓冲层、InGaAs吸收层、InGaAsP组分渐变层、N型掺杂InP电荷层以及InP层;像素阵列,设置在InP层,包括有多个像素;P高掺结构,设置在InP层中的多个...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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