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本发明公开一种光掩模的形成方法，包括以下步骤。提供第一目标图案，其中第一目标图案包括第一图案区以及第二图案区。第一图案区包括块状图案。第二图案区包括多个条状图案。在第二图案区内定义第一侧壁重设区。对第一目标图案执行目标重定义程序，以获取第二...
该专利属于力晶积成电子制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过力晶积成电子制造股份有限公司授权不得商用。

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