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本发明提供一种基板清洗方法及装置，该基板清洗方法包括以下步骤：对基板进行UV照射，切断基板表面污染物的化学键；对经UV清洗部清洗后的基板进行臭氧水清洗，氧化分解UV照射后残留的残渣和细菌；对经臭氧水清洗后的基板进行二氧化碳雪清洗，去除氧化分...
该专利属于上海传芯半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海传芯半导体有限公司授权不得商用。

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