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一种半导体结构的形成方法，包括：形成基底；对所述基底进行重等离子体处理；对经重等离子体处理的基底进行紫外照射处理。对所述基底进行重等离子体处理之后，对所述基底进行紫外照射处理。对所述基底进行重等离子体处理会使基底表面产生电荷积累，而紫外照射...
该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

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