专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
北京大学
>
一种GaN基混合栅增强型高电子迁移率晶体管及其制备方法技术
>技术资料下载
下载一种GaN基混合栅增强型高电子迁移率晶体管及其制备方法的技术资料
文档序号:41065777
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种GaN基混合栅增强型高电子迁移率晶体管及其制备方法,属于微电子器件技术领域。本发明的晶体管在p‑GaN栅与漏极之间引入MIS栅组成混合栅,MIS栅的开启电压低于p‑GaN栅的阈值电压,器件开通时,整体阈值电压由p‑GaN栅决...
该专利属于北京大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。