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本申请涉及半导体技术领域的一种半导体废气处理设备及其制造方法，半导体废气处理设备包括：第一壳体，所述第一壳体内形成热反应腔；纳米陶瓷涂层，所述纳米陶瓷涂层结合于所述第一壳体的内表面。本申请的半导体废气处理设备可以降低燃烧的结晶的附着，减少粉...
该专利属于北京子牛亦东科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京子牛亦东科技有限公司授权不得商用。

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