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本发明提供一种硅片限位挂架及硅片上下料装置，用于解决现有垂直连续式电镀设备的挂具与开夹组件，不适用于硅片的批量化镀铜，加工效率低，不利于硅片应用推广的问题。为本发明提供一种硅片限位挂架及硅片上下料装置，通过在一个挂架上设置多个硅片装载空间，...
该专利属于昆山科比精工设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山科比精工设备有限公司授权不得商用。

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