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本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔室；基板支撑部，在腔室中支撑至少一个基板；底板，设置在基板支撑部上方；以及顶板，设置在底板上方，其中：顶板包括提供第一气体的第一喷射孔和提供第二气体的第二喷射孔；并且底板包括第一开口和第二开口，第一开口设...
该专利属于周星工程股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。

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