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一种浸没光刻装置，包括温度控制器，它用于将投影系统ＰＬ的最后元件、基底Ｗ和液体三者的温度调整到接近公共靶部温度Ｔ４。对这些元件整体温度的控制以及温度梯度的减小改善了成像一致性和一般的性能。采取的措施包括通过一个反馈电路来控制浸液流率和温度。...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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