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本申请提供一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板，其中，该方法包括在衬底基板上形成栅极层；在衬底基板和栅极层的上方依次形成绝缘层和半导体层；对第一走线上方对应的绝缘层和半导体层进行刻蚀，暴露第一走线；在半导体层和第一走线的上方依次形成源...
该专利属于长沙惠科光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长沙惠科光电有限公司授权不得商用。

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