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本申请提供一种阵列基板有源层的制作方法、阵列基板及显示装置，所述阵列基板有源层的制作方法包括：在基板上形成非晶硅层，对所述非晶硅层进行一次或多次激光退火处理得到有源层，所述阵列基板的像素间距为第一长度，所述激光退火处理的激光线束间距为第二长...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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