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本发明公开了一种X射线荧光光谱修正方法及系统、分析仪、设备、介质，其先基于相同的激发光能量分别获取出厂时测试空白载体得到的参考谱图和周期修正时测试空白载体得到的待修正谱图，然后对参考谱图和待修正谱图分别进行积分计算后得到第一荧光产额和第二荧...
该专利属于力合科技（湖南）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过力合科技（湖南）股份有限公司授权不得商用。

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