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本发明公开一种5N级高纯石英晶格中杂质去除难易程度的评价方法，包括以下步骤：S1.对待评估石英原料进行XRD测试，得到优化后待评估石英晶胞模型及晶胞体积V<subgt;B</subgt;；S2.计算优化后待评估石英晶胞模型的Si...
该专利属于武汉理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉理工大学授权不得商用。

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