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一种纳米叠层Cu-Sn低温固态扩散键合工艺方法技术
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文档序号:40980954
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本发明涉及半导体封装技术领域,更具体而言,涉及一种纳米叠层Cu‑Sn低温固态扩散键合工艺方法。本发明通过制作Cu/Sn/Cu/Sn/Cu/Sn/Cu叠层结构的微凸点,利用纳米金属熔点降低效应和尺寸效应,降低键合温度和缩短Sn‑Cu界面扩散距...
该专利属于中北大学所有,仅供学习研究参考,未经过中北大学授权不得商用。
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