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本发明提供基板处理设备。在一实施例中，基板处理设备可以包括：壳体，所述壳体通过上部壳体和下部壳体组合来限定处理空间；气体供应单元，所述气体供应单元向处理空间供应气体；支撑单元，所述支撑单元具有在处理空间支撑基板的卡盘和从上部观察时以包围卡盘...
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