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一种气相沉积设备及其基片承托装置，基片承托装置包含一底座和位于底座上的基片承托环，底座包含用于承托基片的顶板和设置在顶板下方的套筒，基片承托环用于承托基片的边缘区域并实现基片的取放。本技术采用基片承托环作为可移动部件来实现基片的取放，减轻了...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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