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本申请公开了一种基板的清洗装置及清洗方法。其中，基板包括衬底基板和衬底基板一侧的功能膜层，基板的清洗装置包括：预湿单元，用于对基板进行浸泡润湿，预湿单元盛有润湿液；清洗单元，与预湿单元连接，用于对润湿的基板进行冲洗；传送装置，在预湿单元和清...
该专利属于厦门天马光电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门天马光电子有限公司授权不得商用。

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