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本申请公开了一种空气桥及提高空气桥稳定性的方法，属于量子计算机制造领域。提高空气桥稳定性的方法包括：获得用于制造空气桥的第一掩膜；加热第一掩膜以获得第二掩膜；通过第二掩膜依次执行沉积和图案化制得空气桥；空气桥的桥面和桥墩之间具有由所述曲线状...
该专利属于本源量子计算科技（合肥）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过本源量子计算科技（合肥）股份有限公司授权不得商用。

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