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本发明涉及激光器外延片制备技术领域,具体公开一种大功率红外光外延片。所述外延片的结构层从下到上依次包括:衬底、缓冲层、腐蚀截至层、N侧欧姆接触层、N型粗化层、N型电流扩展层、N型限制层、波导层‑量子阱结构、P型限制层、P型超晶格电流扩展层、...该专利属于山东华光光电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东华光光电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及激光器外延片制备技术领域,具体公开一种大功率红外光外延片。所述外延片的结构层从下到上依次包括:衬底、缓冲层、腐蚀截至层、N侧欧姆接触层、N型粗化层、N型电流扩展层、N型限制层、波导层‑量子阱结构、P型限制层、P型超晶格电流扩展层、...