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本发明公开了一种嵌套式磁控溅射减反镀膜装置及其使用方法，涉及磁控溅射镀膜装置技术领域，一种嵌套式磁控溅射减反镀膜装置，包括筒体，还包括：冷却腔，呈圆周状开设在所述筒体中，所述冷却腔中设有多层且多个间隔布置的环形磁铁；本发明通过在镀膜过程中，...
该专利属于苏州仁轩光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州仁轩光电科技有限公司授权不得商用。

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