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本发明提供了一种可实现选择性掩膜的工艺和设备，其特征在于在一种气相淀积设备或一种扩散系统上，设计一种承载硅片的载具，把织构化后的太阳电池片置于载具中，载具子结构的栅线状设计正好将硅片的正面电极区域或非电极受光区域掩盖住，将整个载具通过传输进...
该专利属于浙江百力达太阳能有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江百力达太阳能有限公司授权不得商用。

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